Sinker EDM ဖြင့် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို မည်သို့တိုးမြှင့်နိုင်မည်နည်း။

အထူးသဖြင့် အမြဲတမ်းမှုန်းထားသော ပစ္စည်းများ၊ ရှုပ်ထွေးသော ပုံစံများနှင့် ရှုပ်ထွေးသော ပုံသောင်းအက်များကို အသုံးပြုသည့်အခါ မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို အထူးကောင်းမွန်စေရန်သည် အတိကျမှုရှိသော ထုတ်လုပ်မှုတွင် အရေးကြီးဆုံး စိန်ခေါ်မှုများထဲမှ တစ်ခုဖြစ်သည်။ Sinker EDM ၊ အထူးသဖြင့် ဒိုင်း-စင်က်က် လျှပ်စစ် ဒိုင်းရက် မေးရှင်န် (EDM) အဖြစ် လူသိများပါသည်။ ၎င်းသည် ထုတ်လုပ်သူများအား အရှိန်အဟုန်များကို မှီခိုခြင်းမရှိဘဲ စက်မှုလုပ်ငန်းဆောင်ရွက်နိုင်သည့် အင်အားကြီးသော နည်းလမ်းဖြစ်ပြီး ပိုမိုချောမွေ့သော မျက်နှာပြင်များကို ပိုမိုမာကြောသော ပစ္စည်းများပေါ်တွင် ထုတ်လုပ်ပေးနိုင်ပါသည်။ သို့သော် စင်က်က် EDM ၏ မျက်နှာပြင်အရည်အသွေး အပြည့်အဝရရှိရန်အတွက် လျှပ်စစ်ပါရာမီတာများ၊ အီလက်ထရုံး ပစ္စည်းများ၊ ဒိုင်းအီလက်ထရစ် အရည်စီမံခန့်ခွဲမှုနှင့် နောက်ဆုံးမျက်နှာပြင် အသွင်အနေနှင့် အရည်အသွေးကို တိုက်ရိုက်အကျိုးသက်ရောက်မှုရှိသည့် စက်မှုလုပ်ငန်းဆောင်ရွက်မှု နည်းဗျူဟာများကို နားလည်ထားရန် လိုအပ်ပါသည်။

ဤစုံလင်သောလမ်းညွှန်ချက်သည် ပုံသေနည်းလမ်းများနှင့် စနစ်တကျသောချဉ်းကပ်မှုများကို စူးစမ်းလေ့လာခြင်းဖြစ်ပြီး စင်ကာ EDM ဖြင့် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို မြှင့်တင်ရန်အတွက် ပေါင်းစပ်မှုအချိန်ကို အကောင်အထည်ဖော်ခြင်း၊ အီလက်ထရုဒ်ဒီဇိုင်း၊ ဒိုင်အီလက်ထရစ် ဖလပ်ရှင်းနည်းစနစ်များနှင့် အဆုံးသတ်အဆင့်များအထိ အားလုံးကို ဖော်ပြပေးပါသည်။ သင်သည် ထုံးစွဲသော ပလပ်စတစ်ပုံသောင်းများ၊ လေကြောင်းယာဉ်ပိုင်းဆိုင်ရာအစိတ်အပိုင်းများ သို့မဟုတ် တိကျသော ကိရိယာများကို ထုတ်လုပ်နေပါက မိုက်ခရိုစကော့ပစ်အဆင့်တွင် အပူစွမ်းအင်ဖြင့် ဖျက်ဆီးခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်ကို ထိန်းချုပ်နည်းကို နားလည်ခြင်းဖြင့် အရည်အသွေးမြင့်မှုအတွက် စံချိန်စံညွှန်းများကို အမြဲတမ်းဖော်ပေးနိုင်မည်ဖြစ်ပြီး နောက်ဆုံးပေးသော လုပ်ငန်းစဉ်များကို အနည်းဆုံးဖြစ်အောင် လုပ်ဆောင်နိုင်မည်ဖြစ်ပါသည်။

စင်ကာ EDM တွင် မျက်နှာပုံဖွဲ့စည်းမှု၏ အခြေခံများကို နားလည်ခြင်း

လျှပ်စစ်ပေါင်းစပ်မှုဖြင့် စက်မှုလုပ်ငန်းစဉ်နှင့် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးများ

စင်ကာ EDM ဖြင့် ထုတ်လုပ်သည့် မျက်နှာပုံအဆင့်သည် အီလက်ထရုဒ်နှင့် အလုပ်လုပ်ရာ အရာဝတ္ထုကြားတွင် လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှုများ ထပ်ခါထပ်ခါဖြစ်ပေါ်ခြင်းကြောင့် ဖြစ်ပေါ်လာသည့် ထိန်းချုပ်ထားသော စပာ့က် အရှုပ်ထွေးမှု လုပ်ငန်းစဉ်မှ တိုက်ရိုက်ရရှိသည်။ စပာ့က်တစ်ခုချင်းစီသည် အလုပ်လုပ်ရာ အရာဝတ္ထု၏ မျက်နှာပုံပေါ်တွင် အဏုကြီးသော ခေါင်းလောင်းပုံသဏ္ဍာန် အက်ကြောင်းများကို ပေါက်ကွဲမှုဖြင့် အရာဝတ္ထုကို အရည်ပေါက်စေခြင်းနှင့် အငွေ့ဖြစ်စေခြင်းဖြင့် ဖန်တီးပေးသည်။ ဤခေါင်းလောင်းပုံသဏ္ဍာန် အက်ကြောင်းများ၏ အရွယ်အစားနှင့် နက်ရှိုင်းမှုသည် မျက်နှာပုံ၏ အများစု မျက်နှာပုံ မျော့ကွက်မှုကို ဆုံးဖြတ်ပေးသည်။ ဤအခြေခံသော လုပ်ငန်းစဉ်ကို နားလည်ရန် အရေးကြီးသည်မှာ စင်ကာ EDM ဖြင့် မျက်နှာပုံအဆင့်ကို မော်ကွန်းတင်ခြင်းသည် အများအားဖြင့် စက်ဖြင့် ဖွေးမှုပေးထားသည့် မျက်နှာပုံပေါ်တွင် ပိုမိုသေးငယ်ပြီး ပိုမိုနက်ရှိုင်းမှုနည်းသော နှင့် ပိုမိုတည်ငြိမ်သော ခေါင်းလောင်းပုံသဏ္ဍာန် အက်ကြောင်းများကို ဖန်တီးရန် တစ်ခုချင်းစီသော ပေါက်ကွဲမှု၏ စွမ်းအင်ကို ထိန်းချုပ်ခြင်းကို ဆိုလိုသည်။

ပုံမှန်အားဖြင့် စင်ကာ EDM မျက်နှာပုံသည် ပုံပေါ်လာသော ပြန်လည်ခဲသော အလွှာ (အဖြူရောင်အလွှာဟုလည်း ခေါ်သည်) ဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားပြီး ၎င်းသည် ပူပေါင်းသော ပစ္စည်းများ မျက်နှာပုံပေါ်တွင် ပြန်လည်ခဲသောအခါ ဖွဲ့စည်းလာခြင်းဖြစ်သည်။ ထို့အပြင် အပူအားဖြင့် ထိခိုက်မှုရှိသော အလွှာ (HAZ) သည် အပူလှည့်ပတ်မှုကြောင့် ပစ္စည်း၏ အဏုဇီဝဖွဲ့စည်းမှုကို ပြောင်းလဲစေသည့် အလွှာဖြစ်ပြီး အဆိုပါ အလွှာအောက်တွင် တည်ရှိသည်။ ဤအလွှာများ၏ ထူမှုနှင့် ဂုဏ္ဍသတ္တိများသည် စက်မှုလုပ်ငန်းအတွင်း အသုံးပြုသော လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှုစွမ်းအားပေါ်တွင် အများကြီး မှီခိုနေသည်။ ပိုမိုမြင့်မားသော လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှုစွမ်းအားများသည် ပိုမိုမြန်ဆန်သော ပစ္စည်းဖယ်ရှားမှုနှုန်းများကို ထုတ်ပေးသော်လည်း ပိုမိုနက်ရှိုင်းသော ချောက်များ၊ ပိုမိုထူသော ပြန်လည်ခဲသော အလွှာများနှင့် ပိုမိုချောမှုနည်းသော မျက်နှာပုံများကို ဖန်တီးပေးသည်။ ထို့အပြင် နိမ့်သော လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှုစွမ်းအားများသည် ပိုမိုကောင်းမွန်သော မျက်နှာပုံများကို ထုတ်ပေးသော်လည်း စက်မှုလုပ်ငန်းအချိန်ကို ပိုမိုကြာမောင်းစေသည်။ ထို့ကြောင့် ထုတ်လုပ်မှုနှုန်းနှင့် မျက်နှာပုံအရည်အသွေး အကြားရှိသော အခြေခံကုန်သုံးမှုအကြား အချိန်နှင့် အရည်အသွေးအကြား အချိန်နှင့် အရည်အသွေးအကြား အချိန်နှင့် အရည်အသွေးအကြား အချိန်နှင့် အရည်အသွေးအကြား အချိန်နှင့် အရည်အသွေးအကြား အချိန်နှင့် အရည်အသွေးအကြား အချိန်နှင့် အရည်အသွေးအကြား အချိန်နှင့် အရည်အသွေးအကြား အချိန်နှင့် အရည်အသွေးအကြား အချိန်နှင့် အရည်အသွေးအကြား အချိန်နှင့် အရည်အသွေးအကြား အချိန်နှင့် အရည်အသွေးအကြား အချိန်နှင့် အရည်အသွေးအကြ......

EDM လုပ်ဆောင်မှုများတွင် မျက်နှာပုံချောမှုကို အဓိကအားဖြင့် သက်ရောက်စေသော အချက်များ

စင်ကာ EDM ဖြင့် ရရှိသည့် အဆုံးသတ်မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးကို အကောင်းမွန်စေရန်အတွက် လျှပ်စစ်ဆိုင်ရာ ပါရာမီတာများ (ဥပမါ- အမြင့်ဆုံးလျှပ်စီးကြောင်း၊ ပေါက်ကွဲချိန်၊ ပေါက်ကွဲကြာချိန်အကြား အကြားအဝေးနှင့် ဗို့အား စီမံခန့်ခွဲမှု) စသည့် အချက်များသည် အဓိကအားဖြင့် အပ်စ်ပ်ဖြစ်ပါသည်။ အမြင့်ဆုံးလျှပ်စီးကြောင်းသည် တစ်ခါတည်းသော ပေါက်ကွဲမှုတွင် ပေးအပ်သည့် စွမ်းအင်ပမာဏကို ဆုံးဖြတ်ပေးပြီး ပေါက်ကွဲချိန်တွင် ဖြစ်ပေါ်လာသည့် ပေါက်ကွဲမှုအကွက်၏ အရွယ်အစားကို အများဆုံးအားဖြင့် သက်ရောက်မှုရှိပါသည်။ လျှပ်စီးကြောင်းများ များပေါက်ကွဲမှုအကွက်များကို နက်ရှိုင်းစေပြီး မျက်နှာပြင်ကို ချောမှုနည်းစေပါသည်။ ပေါက်ကွဲချိန်သည် တစ်ခါတည်းသော ပေါက်ကွဲမှု၏ ကြာချိန်ကို ထိန်းချုပ်ပေးပြီး အပူပေါက်ကွဲမှုအကွက်၏ နက်ရှိုင်းမှုနှင့် ပုံသဏ္ဍာန်ကို သက်ရောက်မှုရှိပါသည်။ ပေါက်ကွဲကြာချိန်အကြား အကြားအဝေး (သို့မဟုတ် off-time) သည် အဆက်တွေးပေါက်ကွဲမှုများအကြား အအေးခံခြင်းနှင့် အမှုန်များကို ဖယ်ရှားခြင်းအတွက် အချိန်ပေးပေးပါသည်။ ထိုအချိန်သည် မျက်နှာပြင်၏ တည်ငြိမ်မှုနှင့် အရည်အသွေးကို သက်ရောက်မှုရှိပါသည်။

လျှပ်စစ်ဆိုင်ရာ အချက်အလက်များထက်ပိုမိုကြည့်ရှုရန် လျှပ်ကူးသော အစိတ်အပိုင်းများ၏ ပစ္စည်းရွေးချယ်မှုသည် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို သိသိသာသာ အကူအညီဖေးမေးပေးပါသည်။ အကြောင်းမှာ လျှပ်ကူးသော အစိတ်အပိုင်းများ၏ ပစ္စည်းအများအပြားသည် အစုန်အထောက်မှုန်း၊ အပူလွှဲပေးနိုင်မှုနှင့် လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှု တည်ငြိမ်မှုတို့တွင် ကွဲပြားမှုများ ရှိသောကြောင့်ဖြစ်သည်။ ဂရပ်ဖိုက်လျှပ်ကူးသော အစိတ်အပိုင်းများသည် ပုံမှန်အားဖေး ပိုမ быстр ဖြတ်ထုတ်နိုင်သော်လည်း ကြေးနီလျှပ်ကူးသော အစိတ်အပိုင်းများနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက မျက်နှာပုံအရည်အသွေးသည် အနည်းငယ် ပိုမိုခက်ထန်သော အမျှတ်များကို ဖေးမေးပေးနိုင်သည်။ ကြေးနီလျှပ်ကူးသော အစိတ်အပိုင်းများသည် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကောင်းမော်သော်လည်း အစုန်အထောက်မှုန်းများသည် ပိုမိုမြင့်မားပါသည်။ ဒိုင်အီလက်ထရစ်အရည်၏ အမျိုးအစား၊ အပူခါးနှင့် အမှန်အကန် သန့်စင်နိုင်မှုတို့သည်လည်း လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှု၏ တည်ငြိမ်မှု၊ အမှုန်အမှုန်များကို ဖယ်ရှားနိုင်မှုနှင့် အအေးခံမှုနှုန်းတို့ကို သိသိသာသာ သက်ရောက်မှုရှိပါသည်။ ထို့အပြင် အလုပ်လုပ်သည့် ပစ္စည်း၏ အမျိုးအစားများဖြစ်သော အပူလွှဲပေးနိုင်မှု၊ အရည်ပေါက်ကွဲမှုအပူခါးနှင့် လျှပ်စစ်ခုခံမှုတို့သည်လည်း ပစ္စည်းသည် လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှုများကို မည်သို့တုံ့ပြန်မှုရှိသည်နှင့် ထိုအတိုင်းအတာအရ မျက်နှာပုံ၏ အရည်အသွေးများကို သိသိသာသာ သက်ရောက်မှုရှိပါသည်။

မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို ပိုမိုကောင်းမော်စေရန် လျှပ်စစ်ဆိုင်ရာ အချက်အလက်များကို အကောင်အထောက်ပေးရန်

လျှပ်စစ်စီးကောင်းနှင့် ပေါက်ကွဲမှုကြာချိန်များကို ဗျူဟာမှုကြောင်း စီမံခန့်ခွဲခြင်း

စင်ကာ EDM ဖြင့် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို မြှင့်တင်ခြင်းသည် စက်သုံးစွဲမှု အဆင့်တိုင်းတွင် အမြင့်ဆုံးလျှပ်စီးကြောင်း အထွက်အဝင် ချိန်ညှိမှုများကို စနစ်တကျ အကောင်အထည်ဖော်ခြင်းဖြင့် စတင်ပါသည်။ အထိရောက်ဆုံးသော ချဉ်းကပ်မှုမှာ အဆင့်များစွာပါဝင်သော စက်သုံးစွဲမှု နည်းဗျူဟာကို အသုံးပြုခြင်းဖြစ်ပြီး အစပိုင်း အမြန်စက်သုံးစွဲမှုများတွင် ပိုမိုမြင့်မားသော လျှပ်စီးကြောင်းများကို အရေးကြီးသော ပစ္စည်းဖယ်ရှားမှုအတွက် အသုံးပြုပြီး နောက်တွင် အဆင့်ဆင့် လျော့နည်းသော လျှပ်စီးကြောင်းများဖြင့် အကူအညီပေးသော အဆင့်များနှင့် အပိုင်းအစများကို အသုံးပြုကာ မျက်နှာပုံကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေခြင်းဖြစ်သည်။ မျက်နှာပုံ Ra 0.4 မိုက်ခရောမီတာအောက်ရှိ မှန်ကဲ့သို့သော အရည်အသွေးများကို ရရှိရန်အတွက် နောက်ဆုံးအပိုင်းအစများတွင် အများအားဖြင့် 3 အမ်ပီယာအောက်ရှိ အမြင့်ဆုံးလျှပ်စီးကြောင်းများကို အသုံးပြုပါသည်။ ထိုသို့သော အမြင့်ဆုံးလျှပ်စီးကြောင်းများသည် စက်ပစ္စည်း၏ အထူးစွမ်းရည်များနှင့် အသုံးပြုသည့် ပစ္စည်းအမျိုးအစားပေါ်မူတည်၍ 0.5 မှ 2 အမ်ပီယာအထိ အသုံးပြုနိုင်ပါသည်။

ပေါက်ကွဲမှုစွမ်းအင်နှင့် ချောက်မှုအရည်အသွေးများကို အကောင်းဆုံးဖော်ထုတ်ရန်အတွက် ပေါက်ကွဲမှုကြာချိန်ကို လက်ရှိ ဆက်စပ်မှုဆိုင်ရာ ချိန်ညှိမှုများနှင့် သေချာစွာ ကိုက်ညီအောင် လုပ်ရမည်။ အဆုံးသတ်လုပ်ဆောင်မှုများအတွက် ပေါက်ကွဲမှုကြာချိန်များကို ပုံမော်ဒယ်အားဖြင့် ၀.၅ မှ ၅ မိုက်ခရိုစကောင်း (microseconds) အတွင်း သတ်မှတ်လေ့ရှိပြီး ဤသို့သော တိုတောင်းသော ပေါက်ကွဲမှုကြာချိန်များသည် အပူစွမ်းအင်၏ စုံလင်မှုနှင့် ချောက်မှုအရွယ်အစားကို လျော့နည်းစေပြီး မျှတသော မျက်နှာပြင်အသွင်အနေကို ဖန်တီးပေးသည်။ သို့သော် လုံလေးသော လျှပ်စီးကြောင်းအဆင်းနှင့် အကွာအဝေး ဗို့အားတို့နှင့် မျှတစွာ ညှိနေမှုမရှိပါက အလွန်တိုတောင်းသော ပေါက်ကွဲမှုကြာချိန်များသည် ပေါက်ကွဲမှု၏ တည်ငြိမ်မှုနှင့် စက်မှုလုပ်ငန်း ထိရောက်မှုကို ထိခိုက်စေနိုင်သည်။ လျှပ်စီးကြောင်းနှင့် ပေါက်ကွဲမှုကြာချိန်ကြားတွင် စွမ်းအင်ညီမျှခြင်း ဆက်နှုံ့မှုရှိပြီး ပေါက်ကွဲမှုစွမ်းအင်သည် လျှပ်စီးကြောင်း × ဗို့အား × ပေါက်ကွဲမှုကြာချိန် ဟု ဖော်ပြနိုင်ပါသည်။ ထို့ကြောင့် အဆုံးသတ်လုပ်ဆောင်မှုများအတွင်း အလုပ်လုပ်မှုမျက်နှာပြင်သို့ ပေးအပ်သော စွမ်းအင်ကို တွက်ချက်ခြင်းနှင့် ထိန်းချုပ်ခြင်းအတွက် သင်္ချာဆိုင်ရာ အခြေခံမှုကို ဖေးမော်ပေးပါသည်။

ပေါက်ကွဲမှုအကြာအချိန် အကောင်းဆုံးဖော်ထုတ်ခြင်းနှင့် အလုပ်လုပ်မှုအချိန်အချိုး ထိန်းချုပ်ခြင်း

ပัစ်အကြားကွာခြားမှုကာလ (သို့) ပေါက်ကွဲမှုများကြား အနောက်ကွာခြားမှုကာလသည် အမှုန်များကို ဖယ်ရှားခြင်း၊ အကွာအဝေးကို အအေးခံခြင်းနှင့် ပေါက်ကွဲမှု၏ တည်ငြိမ်မှုကို ထိန်းညှိခြင်းဖြင့် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို သိသိသာသာ အကျိုးသက်ရောက်မှုရှိပါသည်။ ပေါက်ကွဲမှုကာလများကို ပိုမိုရှည်လျားစေခြင်းဖြင့် ပူပေါင်းနေသော ပစ္စည်းများ အမှန်အကန် အေးမှုန်းခြင်း၊ အမှုန်များကို ဖယ်ရှားပေးခြင်းနှင့် ဒိုင်အီလက်ထရစ်အရည်များ အိုင်ယွန်ဖြစ်မှုမှ လွတ်မောင်းခြင်းတို့အတွက် အချိန်ပိုများကို ပေးစေပါသည်။ ထိုအရာများသည် ပေါက်ကွဲမှုများကို ပိုမိုတည်ငြိမ်စေပြီး ပုံမှန်ဖြစ်စေရန် အထောက်အကူပေးပါသည်။ အဆုံးသတ်လုပ်ဆောင်မှုများအတွက် sinker EDM တွင် ပေါက်ကွဲမှုကာလများကို ပေါက်ကွဲမှုကြာခြားမှုများထက် သိသိသာသာ ပိုမိုရှည်လျားစေလေ့ရှိပါသည်။ ထိုသို့သော အချိန်ကာလများတွင် အလုပ်လုပ်သည့် အချိန်အချိုး (အလုပ်လုပ်သည့် အချိန်ကို စုစုပေါင်း အချိန်ဖြင့် စားခြင်း) သည် အများအားဖြင့် ၂၀ ရှိသည်။ အိုင်ယွန်ဖြစ်မှုမှ လွတ်မောင်းခြင်းအတွက် လုံလောက်သော အနားယူခြင်းအချိန်ကို သေချာစေရန်အတွက် ၂၀ ရှိသည်။

သို့သော်လည်း အလွန်ရှည်လျားသော ပัစ်အကြားကာလများသည် မျှသီးခြင်းတစ်ခုခုကို ကျော်လွန်၍ မျှသီးခြင်းအရည်အသွေးကို မြှင့်တင်ပေးနိုင်ခြင်းမရှိဘဲ စက်မှုထုတ်လုပ်မှုထိရောက်မှုကို လျော့နည်းစေပါသည်။ ထို့ကြောင့် စနစ်တကျ စမ်းသပ်မှုများဖြင့် အကောင်းဆုံး ဟန်ချက်ညီမှုကို ရှာဖွေရန် အရေးကြီးပါသည်။ ခေတ်မှီ EDM ထိန်းချုပ်မှုစနစ်များတွင် အများအားဖြင့် အဆင့်မြင့် ပါးစပ်လှုပ်ရှားမှုနည်းပညာများကို ပေးထားပါသည်။ ထိုနည်းပညာများသည် ပါးစပ်လှုပ်ရှားမှုပုံစံများကို အလှည့်ကျ ပြောင်းလဲခြင်း (သို့) ပါးစပ်လှုပ်ရှားမှုများကို အုပ်စုဖွဲ့၍ အသုံးပြုခြင်းဖြင့် စက်မှုအမှုန်အမှုန်များကို ထိရောက်စွာ ဖယ်ရှားပေးရန်နှင့် စက်မှုထုတ်လုပ်မှု ထိရောက်မှုကို ထိန်းသိမ်းပေးရန် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားပါသည်။ ထိုကဲ့သို့သော ရှုပ်ထွေးသော ပါးစပ်လှုပ်ရှားမှုနည်းလမ်းများသည် စက်မှုအမှုန်အမှုန်များ စုပုံမှုကြောင့် ဖြစ်ပေါ်လာသော ဒုတိယအက်ဒ်မ် ပါးစပ်လှုပ်ရှားမှုများကို အနည်းဆုံးဖြစ်အောင် လုပ်ဆောင်ပေးပါသည်။ ထိုသို့သော ဒုတိယအက်ဒ်မ် ပါးစပ်လှုပ်ရှားမှုများသည် မျှသီးခြင်းများပေါ်တွင် မညီမျှမှုများကို ဖြစ်ပေါ်စေပါသည်။ ထို့အတူ ကြောင်းမှုန်များ (crater) ဖွဲ့စည်းမှုတွင် မတည်ငြိမ်မှုများကိုလည်း ဖြစ်ပေါ်စေပါသည်။ လျှပ်စစ်စီးကောင်းမှု (current)၊ ပါးစပ်လှုပ်ရှားမှု ကြာချိန် (duration) နှင့် ပါးစပ်လှုပ်ရှားမှု အကြားကာလ (pulse interval) တို့ကို သေချာစွာ ညှိပေးခြင်းဖြင့် စက်မှုလုပ်ငန်း အချိန်ကို အနည်းငယ်သာ ကုန်ကြေးသုံးပြီး လိုအပ်သော မျှသီးခြင်းအရည်အသွေးကို ရရှိနိုင်ပါသည်။

မျှသီးခြင်း တည်ငြိမ်မှုအတွက် ဗို့အား ဆောင်ရွက်မှုများနှင့် အကွာအဝေး ထိန်းချုပ်မှု

အီလက်ထရုံးနှင့် အလုပ်လုပ်မည့်အရာ (workpiece) အကြားတွင် လျှပ်စစ်ကွင်းကို ထိန်းသိမ်းပေးသည့် အကွာအဝေးဗို့အား (Gap voltage) သည် စပေါက်ခြင်းနေရာ၏ တည်ငြိမ်မှုနှင့် စပေါက်ခြင်းကောလံ၏ အချင်းကို အကူအဖက်ပေးခြင်းဖြင့် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးပေါ်တွင် အနက်ရှိုင်းသော သို့သော် အရေးကြီးသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။ အဆုံးသတ်လုပ်ဆောင်မှုများအတွက် အများအားဖြင့် ဗို့အား ၄၀ မှ ၈၀ โวล့တ်အထိ နိမ့်သော အကွာအဝေးဗို့အားများသည် ပိုမိုစိုက်စွဲသော စပေါက်ခြင်းကောလံများကို ဖော်ထုတ်ပေးပြီး အကွာအဝေးပိုမိုကျယ်ဝန်းသောနေရာများတွင် မတည်ငြိမ်သော စပေါက်ခြင်းဖြစ်ပွားမှုကို လျော့နည်းစေပါသည်။ ဤဗို့အားလျော့ချမှုသည် စပေါက်ခြင်းစွမ်းအင်ကို မျက်နှာပုံ၏ ပိုမိုသေးငယ်သော ဧရိယာများထဲသို့ အာရုံစိုက်စေပါသည်။ ထို့ကြောင့် ပိုမိုတစ်သေးတည်းသော ချောက်များ (crater patterns) နှင့် ပိုမိုချောမွေ့သော မျက်နှာပုံများကို ထုတ်လုပ်ပေးနိုင်ပါသည်။

ဆာဗိုထိန်းချုပ်မှုအာရုံစိုက်မှုနှုန်းသည် စက်ပစ္စည်း၏ အကွာအဝေးအခြေအနေများကို မည်သို့တုံ့ပြန်ပြီး လျှပ်ကူးသွားသည့် အီလက်ထရုံးဒ်၏ အနေအထားကို ညှိပေးမည်ကို သတ်မှတ်ပေးပါသည်။ အဆုံးသတ်အဆင့်များတွင် အကွာအဝေးအကောင်းဆုံးနှင့် တည်ငြိမ်သော စပာ့ခ်အကွာအဝေးအကွာအဝေးများကို ထိန်းသိမ်းရန် ဤအာရုံစိုက်မှုနှုန်းကို အသေးစိတ်ညှိပေးရန် လိုအပ်ပါသည်။ အလွန်အမင်း တုံ့ပြန်မှုများသော ဆာဗိုတုံ့ပြန်မှုများသည် အီလက်ထရုံးဒ်၏ တုန်ခါမှုများနှင့် မတည်ငြိမ်သော စက်လုပ်မှုအခြေအနေများကို ဖော်ပေးနိုင်ပါသည်။ ထို့အတူ အာရုံစိုက်မှုနှုန်း မလ sufficiently မှုသည် အကွာအဝေးကို အလွန်အမင်း ပြောင်းလဲစေနိုင်ပါသည်။ ထိုသို့ဖြစ်ခြင်းကြောင့် မတည်ငြိမ်သော မျက်နှာပုံသဏ္ဍာန်များ ထွက်ပေါ်လာနိုင်ပါသည်။ ခေတ်မှီ EDM စနစ်များတွင် ပေါက်ကွဲမှုအခြေအနေများကို အဆက်မပြတ် စောင်းကြည့်ပြီး အီလက်ထရုံးဒ်၏ ပုံပျက်မှု၊ အပိုင်းအစများ၏ အပူချိန်ပေါ်ပြောင်းလဲမှုများနှင့် အမှိုက်များ စုပုံလာမှုများကို အလိုအလျောက် အကွာအဝေးဆိုင်ရာ စီမံခန့်ခွဲမှုများကို ညှိပေးသည့် စွမ်းရည်များ ပါဝင်ပါသည်။ ထိုသို့သော စွမ်းရည်များသည် ရှည်လျားသော စက်လုပ်မှု စက်ကြောင်းများတွင် မျက်နှာပုံသဏ္ဍာန်အရ တည်ငြိမ်မှုကို ထိန်းသိမ်းရန် အထောက်အကူပေးပါသည်။

အီလက်ထရုံးဒ်၏ ဒီဇိုင်းနှင့် ပစ္စည်းရွေးချယ်မှု နည်းဗျူဟာများ

မျက်နှာပုံသဏ္ဍာန်အရ ရလေ့ရှိရသည့် ရည်မှန်းချက်များအတွက် အကောင်းဆုံး အီလက်ထရုံးဒ်ပစ္စည်းများကို ရွေးချယ်ခြင်း

အီလက်ထရုံးဒ်ပစ္စည်းရွေးချယ်မှုသည် စင်ကာ EDM လုပ်ဆောင်မှုများတွင် ရရှိနိုင်သည့် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို အထူးသဖြင့် သက်ရောက်မှုရှိသည့် အရေးကြီးသည့် ဆုံးဖြတ်ချက်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ကြေးနီအီလက်ထရုံးဒ်များသည် ဂရပ်ဖိုက်အီလက်ထရုံးဒ်များထက် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကောင်းမော်က်က်များကို ပိုမိုပေးစွမ်းနိုင်ပါသည်။ အထူးသဖြင့် Ra 0.3 မိုက်ခရောမီတာအောက်ရှိ မှန်ကဲ့သို့သော မျက်နှာပုံအရည်အသွေးများကို လိုအပ်သည့် အသုံးချမှုများအတွက် ဖြစ်ပါသည်။ ကြေးနီ၏ ပိုမိုမြင့်မားသည့် အပူစီးဆင်းမှုနှုန်းသည် လျှပ်စီးဖောက်ထုတ်မှုအတွင်း အပူကို ပိုမိုထိရောက်စွာ ဖြ рассеять ပေးနိုင်ပါသည်။ ထို့ကြောင့် ပေါက်ကွဲမှုနေရာများတွင် အရည်ပေါက်ကွဲမှုဧရိယာသည် သေးငယ်ပြီး ကျောက်တုံးပေါက်ကွဲမှုများသည် ပိုမိုနုပ်ညံ့သည်။ ကြေးနီသည် လျှပ်စီးဖောက်ထုတ်မှုစွမ်းအားနိုင်ငံသို့ လျော့နည်းသည့်အခါ အသုံးပြုမှုအတွင်း ပိုမိုကောင်းမော်က်သည့် အရွယ်အစားတိက်မှုကို ထိန်းသိမ်းနိုင်ပါသည်။ အကြောင်းမှာ ၎င်း၏ အသုံးပြုမှုနှုန်းသည် နိမ့်ပါသည်။ ထို့ကြောင့် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို အဓိကထားသည့်အခါ ကြေးနီအီလက်ထရုံးဒ်များကို အီလက်ထရုံးဒ်စုန်းကုန်နှင့် စက်ဖောက်ထုတ်မှုအမြန်နှုန်းထက် ပိုမိုနှစ်သက်ကြိုက်နှင်းမှုရှိပါသည်။

ဂရပ်ဖိုက်လျှပ်မှုသံသယ်မှုချောင်းများသည် ကြေးနီထက် အနည်းငယ် မျှတမှုနည်းသော မျက်နှာပုံများကို ထုတ်လုပ်ပေးသော်လည်း ကြီးမားသော အောက်ခေါင်းများ၊ ရှုပ်ထွေးသော ပုံစံများ သို့မဟုတ် မျက်နှာပုံ၏ ချောမှုကို အနည်းငယ် စွန့်လွှတ်ရသော်လည်း ပစ္စည်းဖျက်ခြင်းနှုန်းများ မြန်ဆန်မှုကို အကောင်းဆုံးဖော်ပေးနိုင်သည့် အခြေအနေများတွင် အကောင်းများစွာရှိပါသည်။ ၅ မိုက်ခရိုမီတာအောက်ရှိ အမှုန်အသေးစိတ်များပါသော ဂရပ်ဖိုက်အမျိုးအစားများကို လျှပ်စစ်စွမ်းအားပေးမှုများကို အကောင်းဆုံးအားဖေးပေးနိုင်သည့် နည်းလမ်းဖြင့် အသုံးပြုပါက ကြေးနီနှင့် နီးစပ်သော မျက်နှာပုံများကို ရရှိနိုင်ပါသည်။ ကြေးနီ-တန်စတန် နှင့် ငွေ-တန်စတန် ပေါင်းစပ်မှုများဖြင့် ပုံစောင်းထုတ်ထားသော လျှပ်မှုသံသယ်မှုချောင်းများသည် အလယ်အလတ်အဆင့် စွမ်းဆောင်ရည်များကို ပေးစေပါသည်။ ကြေးနီသန့်စင်မှုထက် ပိုမိုကောင်းမွန်သော wearing resistance (အသုံးပျောက်မှုခံနိုင်ရည်) ကို ပေးနိုင်ပါသည်။ ထို့အပေါ်တွင် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို ထိန်းသိမ်းနိုင်ပါသည်။ ထို့ကြောင့် ခံနိုင်ရည်နှင့် အရည်အသွေးနှစ်မျိုးလုံးကို လိုအပ်သည့် အသုံးပြုမှုများအတွက် သင့်တော်ပါသည်။

မျက်နှာပုံပြင်ဆင်ခြင်းနှင့် လျှပ်မှုသံသယ်မှုချောင်းများကို အဆင်သင်းစေရန် နည်းလမ်းများ

အီလက်ထရုံး၏ မျက်နှာပုံအခြေအနေသည် စင်ကာ EDM လုပ်ဆောင်မှုများအတွင်း အလုပ်လုပ်ရာမှုအရာပေါ်သို့ တိုက်ရိုက်သိမ်းသွင်းပေးပါသည်။ ထို့ကြောင့် အထူးကောင်းမွန်သော အမျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို ရရှိရန်အတွက် အီလက်ထရုံး၏ မျက်နှာပုံပြင်ဆင်မှုသည် အရေးကြီးသော အချက်ဖြစ်ပါသည်။ အမျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေရန်အတွက် အသုံးပြုမည့် အီလက်ထရုံးများကို အမျက်နှာပုံအရည်အသွေး ပန်းတိုင်ထက် သိသိသာသာ ပိုမိုကောင်းမွန်သော မျက်နှာပုံအရည်အသွေး (အများအားဖြင့် သုံးမှ ငါးဆအထိ ပိုမိုချောမွေ့သော) ဖြင့် စက်ဖြင့်ဖွဲ့စည်းခြင်း၊ မှုန်ဖြင့်ခြေးခြင်း သို့မဟုတ် အမျက်နှာပုံကို ပြုပြင်ခြင်းတို့ဖြင့် ပြင်ဆင်ရပါမည်။ ဤသို့သော ပြင်ဆင်မှုများသည် အီလက်ထရုံးပေါ်ရှိ မျက်နှာပုံအမျှတမှုများသည် အလုပ်လုပ်ရာမှုအရာပေါ်သို့ မူလအတိုင်း ပုံစေးမှုများအဖြစ် မူလအတိုင်း မပုံဖေးနိုင်စေရန်နှင့် အီလက်ထရုံး၏ မျက်နှာပုံပေါ်တွင် လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှုပုံစေးများသည် အမျှတဆုံးဖြစ်စေရန် အာမခံပေးပါသည်။

မျက်နှာပုံအရည်အသွေး အထူးကောင်းမွန်မှုကို လိုအပ်သည့် အသုံးချမှုများအတွက် အီလက်ထရုံးများကို စိတ်ကြိုက်ဖြစ်အောင် အထူးပြုထုတ်လုပ်ခြင်း လုပ်ငန်းစဉ်များဖြင့် အဆင့်မြင့် ကုန်းပ်ခြင်း (diamond wheels ဖြင့် အသေးစိတ်ကုန်းပ်ခြင်း)၊ အီလက်ထရုံးများကို အိုင်စ်ကုန်းပ်ခြင်း (lapping with abrasive compounds) သို့မဟုတ် မှန်ကဲ့သို့သော အလွန်ချောမွေ့သော မျက်နှာပုံရရှိရန် အလွန်ချောမွေ့သော မှန်ကဲ့သို့သော အလွန်ချောမွေ့သော မျက်နှာပုံရရှိရန် အလွန်ချောမွေ့သော မှန်ကဲ့သို့သော အလွန်ချောမွေ့သော မျက်နှာပုံရရှိရန် အလွန်ချောမွေ့သော မှန်ကဲ့သို့သော အလွန်ချောမွေ့သော မျက်နှာပုံရရှိရန် အလွန်ချောမွေ့သော မှန်ကဲ့သို့သော အလွန်ချောမွေ့သော မျက်နှာပုံရရှိရန် အလွန်ချောမွေ့သော မှန်ကဲ့သို့သော အလွန်ချောမွေ့သော မျက်နှာပုံရရှိရန် အလွန်ချောမွေ့သော မှန်ကဲ့သို့သော အလွန်ချောမွေ့သော မျက်နှာပုံရရှိရန် အလွန်ခ......

အီလက်ထရုံး ပုံပေါ်မှု ပြေမှုနှင့် အီလက်ထရုံး အများအပ်စု အသုံးချမှုများ

စင်ကာ EDM လုပ်ဆောင်မှုအတွင်း အီလက်ထရုံးဒ်၏ ပုံပေါ်မှုသည် မျှတသော မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးကို မမေးမရော်ဖြစ်စေပါသည်။ အထူးသဖြင့် ရှည်လျားသော စက်သုံးခြင်း စက်ဝိုင်းများ သို့မဟုတ် ပုံပေါ်မှုများသော အီလက်ထရုံးဒ်ပစ္စည်းများကို အသုံးပြုသည့်အခါတွင် ဖြစ်ပါသည်။ စက်ထိန်းချုပ်မှု ဆောင့်ထောက်ပေးမှုများမှ အီလက်ထရုံးဒ်၏ ပုံပေါ်မှုကို စနစ်တကျ ပေးစေခြင်းဖြင့် လုပ်ငန်းစဉ်တစ်လျှောက် အကွာအဝေး အခြေအနေများနှင့် လျှပ်စစ်စီးဆေးမှု ဂုဏ္ဍသတ္တိများကို မျှတစေနိုင်ပါသည်။ ခေတ်မှီ EDM စနစ်များသည် ခန့်မှန်းထားသည့် သို့မဟုတ် တိုင်းတာထားသည့် ပုံပေါ်မှုနှုန်းများအရ အီလက်ထရုံးဒ်၏ နေရာချထားမှုကို အလိုအလျောက် တွက်ချက်ပြီး ညှိပေးနိုင်ပါသည်။ ထို့ကြောင့် အဆုံးသတ်အဆင့်များတွင် ပုံပေါ်မှုမရှိသော အီလက်ထရုံးဒ်များဖြင့် မဟုတ်ဘဲ မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးကို ထိခိုက်စေနိုင်သည့် ပုံပေါ်မှုရှိသော အီလက်ထရုံးဒ်များဖြင့် အဆုံးသတ်အဆင့်များကို လုပ်ဆောင်နိုင်ပါသည်။

များပါးသော အီလက်ထရုဒ် နည်းဗျူဟာသည် ထုတ်လုပ်မှုနှုန်းနှင့် မျက်နှာပုံအရည်အသွေး နှစ်ခုစလုံးကို အကောင်းများဆုံးဖြစ်အောင် ပြုလုပ်ရာတွင် အလွန်ထိရောက်သော ချဉ်းကပ်မှုဖြစ်သည်။ ဤနည်းစနစ်တွင် အစိတ်အပိုင်းများကို အဆင့်သုံးဆင့် (အစိတ်အပိုင်းဖွဲ့စည်းခြင်း၊ အလယ်အလတ်အဆင့်ဖွဲ့စည်းခြင်းနှင့် အဆင့်မှီအဆင့်ဖွဲ့စည်းခြင်း) အတွက် သီးခြားအီလက်ထရုဒ်များကို အသုံးပြုသည်။ ဤနည်းလမ်းသည် အီလက်ထရုဒ်တစ်ခုချင်းစီကို ၎င်း၏ ရည်ရွယ်ချက်အတွက် သီးသန့်ဒီဇိုင်းထုတ်ပေးပြီး အကောင်းများဆုံးဖြစ်အောင် ပြုလုပ်နောက်ဆက်တွဲအဖြစ် အသုံးပြုနိုင်စေသည်။ အစိတ်အပိုင်းဖွဲ့စည်းခြင်းအတွက် အီလက်ထရုဒ်များသည် ပစ္စည်းဖွဲ့စည်းမှု ထိရောက်မှုကို အဓိကထားပြီး အဆင့်မှီအဆင့်ဖွဲ့စည်းခြင်းအတွက် အီလက်ထရုဒ်များသည် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကိုသာ အဓိကထားသည်။ အဆင့်မှီအဆင့်ဖွဲ့စည်းခြင်းအတွက် အီလက်ထရုဒ်ကို အရည်အသွေးမြင့်များဖြင့် ထုတ်လုပ်နိုင်ပြီး မျက်နှာပုံအရည်အသွေး အထူးသော်လည်းကောင်းများသော စံနှုန်းများအတွင်း ပြငုန်းပေးနိုင်ပါသည်။ ထို့အပြင် အီလက်ထရုဒ်ကို ပုံပေါ်မှုနောက်ဆက်တွဲအဖြစ် အသုံးပြုသည့်အခါ အသုံးပြုမှုအတွင်း ပုံပေါ်မှုနောက်ဆက်တွဲအဖြစ် အသုံးပြုသည့်အခါ အသုံးပြုမှုအတွင်း ပုံပေါ်မှုနောက်ဆက်တွဲအဖြစ် အသုံးပြုသည့်အခါ အသုံးပြုမှုအတွင်း ပုံပေါ်မှုနောက်ဆက်တွဲအဖြစ် အသုံးပြုသည့်အခါ အသုံးပြုမှုအတွင်း ပုံပေါ်မှုနောက်ဆက်တွဲအဖြစ် အသုံးပြုသည့်အခါ အသုံးပြုမှုအတွင်း ပုံပေါ်မှုနောက်ဆက်တွဲအဖြစ် အသုံးပြုသည့်အခါ အသုံးပြုမှုအတွင်း ပုံပေါ်မှုနောက်ဆ......

မျက်နှာပုံအရည်အသွေး အကောင်းများဆုံးဖြစ်အောင် ဒိုင်အီလက်ထရစ် အရည်စီမံခန့်ခွဲမှု

ဒိုင်အီလက်ထရစ် ရွေးချယ်မှုနှင့် ဂုဏ္ဍသတ္တိများ ထိန်းညှိခြင်း

စင်ကာ EDM တွင် အသုံးပြုသည့် ဒိုင်အီလက်ထရစ်အရည်သည် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို တိုက်ရိုက်အကျိုးသက်ရောက်စေသည့် အရေးကြီးသည့် လုပ်ဆောင်ချက်များစွာကို ပေးစေပါသည်။ ဤလုပ်ဆောင်ချက်များတွင် လျှပ်စစ်ပေးစွမ်းမှုများကြား လျှပ်စစ်အ insultation ဖောက်ထွင်းမှုကို ကာကွယ်ခြင်း၊ စက်မှုနေရာကို အအေးခံခြင်းနှင့် အမှုန်များကို ဖျော်လျှော့ဖေးထုတ်ခြင်းတို့ ပါဝင်ပါသည်။ မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို အဓိကထားသည့် အသုံးပြုမှုများအတွက် ဟိုက်ဒရိုကာဘွန်အခြေပြု ဒိုင်အီလက်ထရစ်ဆီများသည် အသုံးများဆုံးရွေးချယ်မှုဖြစ်နေပါသည်။ အဘယ်ကြောင့်ဆိုသော် ၎င်းတို့သည် ပေးစွမ်းမှုတည်ငြိမ်မှုကို အထူးကောင်းမော်ပေးပါသည်။ ဖျော်လျှော့ဖေးထုတ်မှုအတွက် အထူးသင့်တော်သည့် အထူးနှုန်းနောက်ခံ (low viscosity) ရှိပါသည်။ အခြားဒိုင်အီလက်ထရစ်အမျိုးအစားများနှင့် နှိုင်းယှဉ်လျှင် မျက်နှာပုံပေါ်တွင် အနည်းငယ်သာ အစင်းများကို ဖော်ပေးပါသည်။ ဒိုင်အီလက်ထရစ်၏ လျှပ်စစ်ဖောက်ထွင်းမှုအား (electrical breakdown strength)၊ အထူးနှုန်းနောက်ခံ (viscosity) နှင့် ညစ်ညမ်းမှုအဆင့် (contamination level) တို့သည် ပေးစွမ်းမှု၏ သဘောသမ်ဗ်များနှင့် ထွက်ပေါ်လာသည့် မျက်နှာပုံအသွင်အနေကို အကျိုးသက်ရောက်စေပါသည်။

အဆုံးသတ်လုပ်ငန်းများအတွက် အများအားဖြင့် ၂၀ မှ ၂၅ စင်တီဂရီဒီဂရီစင်တီဂရီ (°C) အကြားရှိသော ဒိုင်အီလက်ထရစ်အရည်၏ သင့်တော်သော အပူခါးမှုကို ထိန်းသိမ်းခြင်းဖြင့် စက်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တစ်လုံးလုံးတွင် လျှပ်စစ်ဂုဏ်သတ္တိများနှင့် အစိုစွတ်မှု (viscosity) တွင် တည်ငြိမ်မှုကို အာမခံနိုင်ပါသည်။ အပူခါးမှု အပေါ်ယံပေါ်လေးမှုများသည် စွမ်းအင်လွှဲပေးမှု ထိရောက်မှုနှင့် အကွာအဝေးအခြေအနေများတွင် ပြောင်းလဲမှုများကို ဖော်ပေးပြီး မျက်နှာပုံအရည်အသွေး မတည်ငြိမ်မှုများကို ဖော်ပေးပါသည်။ ဒိုင်အီလက်ထရစ်အရည်မှ အမှုန်များနှင့် ကာဗွန်ညစ်ညမ်းမှုများကို အဆက်မပြတ် ဖယ်ရှားပေးသည့် အရည်အသွေးမြင့် စစ်ထုတ်စနစ်များသည် အလွန်အရေးကြီးပါသည်။ အမှုန်များ စုပုံလာခြင်းသည် ဒုတိယအကြိမ် လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှုများကို ဖော်ပေးပြီး စက်မှုလုပ်ငန်းအခြေအနေများကို မတည်ငြိမ်စေကာ မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို ပိုမိုဆိုးရွားစေပါသည်။ အရေးကြီးသော အဆုံးသတ်လုပ်ငန်းများအတွက် ဒိုင်အီလက်ထရစ်အရည်၏ ပေါက်ကွဲမှုခုခံမှု (resistivity) ကို စောင်းထားပြီး သတ်မှတ်ထားသော အတိုင်းအတာများအတွင်း ထိန်းသိမ်းရန် လိုအပ်ပါသည်။ ယင်းအတိုင်းအတာများသည် အများအားဖြင့် ၁၀ မီဂါအိုင်မ်-စင်တီမီတာ (megohm-centimeters) အထက်ဖြစ်ပါသည်။ ထိုသို့ပြုလုပ်ခြင်းဖြင့် လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှုများကို သင့်တော်သောနေရာတွင် ဖော်ပေးနိုင်ပါသည်။ ထို့အပေါ် အမှုန်မှုန်ပေါက်ကွဲမှုများ (erratic sparking) ကို ကာကွယ်နိုင်ပါသည်။

ရေစီးသော နည်းဗျူဟာများနှင့် အမှုန်များ စီမံခန့်ခွဲမှု

ထိရောက်သော ဒိုင်အီလက်ထရစ် ဖလပ်ရှင်းလုပ်ခြင်းသည် စင်ကာ EDM ဖြင့် မြင့်မားသော မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးကို ရရှိရေးတွင် အရေးကြီးဆုံးဖြစ်သည့်အနက် မကြာခဏ လျစ်လျူရှုခံရသော အချက်တစ်ခုဖြစ်သည်။ မလုံလောက်သော အမှိုအမှဲများ ဖယ်ရှားခြင်းသည် အမှိုအမှဲများပါဝင်သော အကွာအဝေးအခြေအနေများကို ဖြစ်ပေါ်စေပြီး အမှိုအမှဲများသည် ဒုတိယအကြိမ် လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှုများကို ဖော်ပေါ်စေကာ မတ်မတ်မက်မက် ကြောင်းများ၊ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အက်ကြောင်းများနှင့် မတ်မတ်မက်မက် မျက်နှာပြင်ချောမှုများကို ဖော်ပေါ်စေသည်။ ဖလပ်ရှင်းလုပ်ခြင်း၏ ထိရောက်မှုကို အကောင်းမားဆုံးဖော်ထုတ်ရေးအတွက် လျှပ်စစ်သံသုံး အမှိုအမှဲဖယ်ရှားရေး နည်းလမ်းများ (ဥပမါ- လျှပ်စစ်သံမှတဆင့် ဖိအားဖော်ပေးသော ဖလပ်ရှင်းလုပ်ခြင်း၊ အလုပ်လုပ်ရေး အရုပ်မှ စုပ်ယူသော ဖလပ်ရှင်းလုပ်ခြင်း သို့မဟုတ် နက်ရှိုင်းသော အကွက်များနှင့် ကန့်သတ်ထားသော ပုံစံများမှ အမှိုအမှဲများကို အကောင်းမားဆုံး ဖယ်ရှားပေးနိုင်သည့် ပေါင်းစပ်ဖော်ပေါ်သော ဖလပ်ရှင်းလုပ်ခြင်းနည်းလမ်းများ) ကို ရွေးချယ်ခြင်းတွင် အဓိကထားရမည်။

မျှော်မှန်းထားသည့် အနည်းငယ်သာ ပစ္စည်းကို ဖယ်ရှားခြင်းဖြစ်သော အဆုံးသတ်အဆင့်များတွင် မျှော်မှန်းထားသည့် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးသည် အလွန်အရေးကြီးပါသည်။ ထိုအချိန်တွင် အမှုန်များကို လုံလောက်စွာ ဖယ်ရှားပေးနိုင်ရန်အတွက် ရေစီးနှုန်းကို သေချာစွာ ညှိပေးရပါမည်။ သို့မဟုတ် အကွာအဝေး မတည်ငြိမ်မှု (gap instability) သို့မဟုတ် အီလက်ထရုဒ် အကွာအဝေး ပြောင်းလဲမှု (electrode deflection) ကို ဖြစ်ပေါ်စေနိုင်ပါသည်။ အလွန်များပေါ်သော ရေစီးနှုန်းသည် အလွန်တိကျစွာ ထိန်းချုပ်ထားသည့် စပာ့က်အကွာအဝေး (spark gap) ကို ပျက်စီးစေနိုင်ပါသည်။ အထူးသဖြင့် အလွန်ပေါ့ပါးသော အဆုံးသတ်အီလက်ထရုဒ်များ (finishing electrodes) ကို အသုံးပြုသည့်အခါ အထူးသဖြင့် အလွန်သေးငယ်သော အတံအကွာအဝေး (cross-sections) သို့မဟုတ် ရှုပ်ထွေးသော ပုံစံများ (complex geometries) ရှိသည့်အခါ ဖြစ်ပါသည်။ ထို့ပဲ ရေစီးနှုန်း မလ sufficiently ဖြစ်ပါက အမှုန်များ စုပုံလာခြင်းကြောင့် စပာ့က်ဖြစ်ပေါ်မှု မတည်ငြိမ်မှု (discharge stability) နှင့် မျက်နှာပုံအရည်အသွေး မတည်ငြိမ်မှု (surface consistency) တို့ကို ထိခိုက်စေနိုင်ပါသည်။ အချို့သော အဆင့်မြင့်အသုံးချမှုများတွင် အီလက်ထရုဒ်ကို လှည့်ပေးခြင်း (orbital) သို့မဟုတ် ဂြိုလ်ပတ်လှည့်ပေးခြင်း (planetary) နည်းလမ်းများကို အသုံးပြုပြီး အီလက်ထရုဒ်နှင့် အီလက်ထရုဒ်အကွာအဝေး (gap geometry) ကို အမျှော်မှန်းထားသည့် အတိုင်း အမျှော်မှန်းထားသည့် အတိုင်း ပြောင်းလဲပေးခြင်းဖြင့် ဒိုင်အီလက်ထရစ် (dielectric) အီလက်ထရစ် စီးဆင်းမှု (dielectric circulation) နှင့် အမှုန်များ ဖယ်ရှားမှု (debris removal) ကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။ ထိုနည်းဖြင့် စက်သုံးမှု တည်ငြိမ်မှု (machining stability) နှင့် စက်သုံးမှု မျက်နှာပုံအရည်အသွေး တည်ငြိမ်မှု (surface finish uniformity) တို့ကို စက်သုံးမှု ဧရိယာတစ်ခုလုံးတွင် မြှင့်တင်ပေးနိုင်ပါသည်။

အဆင့်မြင့် ဒိုင်အီလက်ထရစ် ကုသမှုနည်းပညာများ

ခေတ်မှီ EDM စက်ရုံများသည် မျှော်မှန်းထားသော မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို မြင့်တင်ရန်အတွက် အခြေခံသုတ်သင်ခြင်းကို ကျော်လွန်၍ အဆင့်မြင့် ဒိုင်အီလက်ထရစ် ကုသမှုစနစ်များကို တဖြည်းဖြည်း အသုံးပြုလာကြသည်။ သံလိုက်သုတ်သင်ခြင်းစနစ်များသည် သာမန်သုတ်သင်စနစ်များဖြင့် မှုန်းထုတ်နိုင်ခြင်းမရှိသော သံလိုက်ဓာတ်ပါ အညစ်အကှေးများကို ဖယ်ရှားပေးပြီး ဤညစ်ညမ်းမှုများကြောင့် ဒိုင်အီလက်ထရစ် စွန့်လွှတ်မှုအမှားအမှင်များ ဖြစ်ပေါ်လာခြင်းကို ကာကွယ်ပေးသည်။ အိုင်အွန်လဲလှယ်မှုစနစ်များသည် လျှပ်စစ်ကာကွယ်မှုဂုဏ်သတ္တိများကို ထိခိုက်စေနိုင်သော ပေါ်လွင်နေသော အိုင်အွန်များကို ဖယ်ရှားခြင်းဖြင့် ဒိုင်အီလက်ထရစ် ခုခံမှုအားကို အကောင်းဆုံးအတိုင်း ထိန်းသိမ်းပေးသည်။ အလိုအလျောက် ဒိုင်အီလက်ထရစ် အပိုစွမ်းစွမ်းစနစ်များသည် ရေစိုမှုစရိုက်များကို မြင့်တင်ပေးခြင်းနှင့် စွန့်လွှတ်မှုတည်ငြိမ်မှုကို ကောင်းမွန်စေခြင်းအတွက် ဆာဖက်တင့်များ (surfactants) သို့မဟုတ် အခြေအနေညှိမှုဆေးဝါးများကို ထည့်သွင်းပေးသည်။

မျက်နှာပုံအရည်အသွေး အထူးကောင်းမွန်မှုကို လိုအပ်သည့် အသုံးချမှုများအတွက် ပိတ်ထားသော စနစ် (closed-loop) ဒိုင်အီလက်ထရစ် စီမံခန့်ခွဲမှုစနစ်များသည် အပူခါး၊ လျှပ်ကူးနိုင်မှု၊ ညစ်ညမ်းမှုအဆင့်နှင့် အောက်ဆီကိုင်ဒ်ဖြစ်မှုအဆင့် စသည့် အရည်ပါရာမီတာများကို အဆက်မပါ စောင်းကြည့်လေ့လာပြီး အကောင်းမွန်ဆုံးအခြေအနေများကို ထိန်းသိမ်းရန် ကုသမှုလုပ်ငန်းစဉ်များကို အလိုအလျောက် ညှိပေးပါသည်။ ဤအဆင့်မြင့်စနစ်များသည် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို သိသိသာသာ ထိခိုက်စေမည့် အခြေအနေများဖြစ်သည့် ဒိုင်အီလက်ထရစ်အရည်အသွေး ကျဆင်းမှုကို အလေးအနက် သတိပေးခြင်းဖြင့် ပိုမိုမြန်ဆန်သော စီမံကုသမှုများ (ဥပမါ- စီမံကုသမှုအတွက် အဝေးကြည့်စနစ် ပိုမိုမြန်ဆန်စေခြင်း၊ အပိုစွမ်းအား ထည့်သွင်းခြင်း သို့မဟုတ် အရည်အသေးစိတ် အစားထိုးခြင်း) ကို စတင်ပေးပါသည်။ အရေးကြီးသည့် အလုပ်အကိုင်များ သို့မဟုတ် မျက်နှာပုံအရည်အသွေး တည်ငြိမ်မှုသည် ထုတ်ကုန်အရည်အသွေးနှင့် ဖောက်သည်က удовлетворမှုကို တိုက်ရိုက်သက်ရောက်မှုရှိသည့် ထုတ်လုပ်မှုပတ်ဝန်းကျင်များတွင် ဒိုင်အီလက်ထရစ် စီမံခန့်ခွဲမှု စည်းမျဉ်းများကို စနစ်တကျ အကောင်အထောက်ပြုခြင်းသည် အထူးအရေးကြီးပါသည်။

အဆင့်မြင့် စက်မှုနည်းပညာများနှင့် လုပ်ငန်းစဉ် အကောင်အထောက်ပြုခြင်း

အဆင့်များစွာပါသော အဆုံးသတ်မှု အဆင့်များ

စင်ကာ EDM ဖြင့် အထူးကောင်းမွန်သော မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို ရရှိရန်အတွက် မျက်နှာပုံကို အဆင့်ဆင့် အသေအချာ စီစဉ်ထားသော အပိုင်းအစများဖြင့် တဖြည်းဖြည်း ပိုမိုကောင်းမွန်လာစေရန် စနစ်ကျသော အဆင့်များစွာပါသော စက်မှုလုပ်ငန်းနည်းလမ်းများကို အသုံးပြုရပါမည်။ နောက်ဆုံးမျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို အဆင့်တစ်ခုတည်းဖြင့် ရရှိရန် ကြိုးစားခြင်းထက် အကောင်းဆုံးနည်းလမ်းမှာ အဆင့်များစွာဖြင့် အပိုင်းအစများကို แบ่งခြား၍ လျော့နည်းသော လျှပ်စစ်စီးကောင်းမှုစွမ်းအားများဖြင့် အပိုင်းအစများကို အသုံးပြုခြင်းဖြစ်သည်။ အရည်အသွေးမြင့်မားသော အပိုင်းအစများကို အသုံးပြုသည့် အများအားဖြင့် အဆင့်အလယ်အနေဖြင့် လျှပ်စစ်စီးကောင်းမှုအား အလယ်အလတ်အဆင့်ဖြင့် အသုံးပြု၍ မျက်နှာပုံပေါ်တွင် ကျန်ရှိနေသော မျက်နှာပုံအများကြီးကို ဖယ်ရှားပေးပါသည်။ ထိုအဆင့်အလယ်အနေဖြင့် အပိုင်းအစများကို အသုံးပြုပြီးနောက် လျှပ်စစ်စီးကောင်းမှုအား တဖြည်းဖြည်း လျော့နည်းစေရန် အပိုင်းအစများကို နောက်ထပ် အဆင့်နှစ်ခုမှ သုံးခုအထိ အသုံးပြုပါသည်။ အဆိုပါ အပိုင်းအစများတိုင်းသည် မျက်နှာပုံအများကို ၄၀ ရှိသော ၆၀ ရှိသော ရှုခ်မှုအထိ လျော့နည်းစေပါသည်။

အဆုံးသတ်ခြင်းအလုပ်စဉ်တစ်ခုချင်းစီအတွက် အီလက်ထရုဒ်၏ ထိုးဖောက်မှုနက်ရှိုင်းမှုကို မျှော်မှန်းထားသော ပစ္စည်းဖယ်ရှားမှုပမာဏနှင့် ယခင်အလုပ်စဉ်နှင့် မျှော်မှန်းထားသော အပေါ်လုံးဝကွဲလေးမှု (overlap) အပေါ်တွင် သေချာစွာတွက်ချက်ရမည်။ အပေါ်လုံးဝကွဲလေးမှု မလ sufficiently ဖြစ်ပါက ယခင်အလုပ်စဉ်များမှ ကျန်ရှိသော မျက်နှာပုံမှုမှုများ (residual roughness) ကို ဖော်ပေးမည်ဖြစ်ပြီး၊ အပေါ်လုံးဝကွဲလေးမှု အလွန်အကျူးဖြစ်ပါက မျက်နှာပုံမှုမှုကို မြှင့်တင်ခြင်းမရှိဘဲ အချိန်ကုန်သက်သက်သာသာ ဖြစ်စေမည်။ အရေးကြီးသော အသုံးပုံအတွက် အလွန်နိမ့်သော ဒစ်စ်ချာဂ်စွမ်းအားများဖြင့် အထူးသော မှန်ပုံစံအဆုံးသတ်ခြင်းအလုပ်စဉ်များကို အသုံးပြုနိုင်ပြီး ထိပ်တန်ဖိုး လျှပ်စီးကြောင်း ၁ အာမ်ပီယာအောက်နှင့် ပေါက်ကွဲမှုကြာချိန် ၂ မိုက်ခရိုစက္ကန်ဒ်အောက်တွင် မျက်နှာပုံမှုမှု Ra တန်ဖိုး ၀.၂ မိုက်ခရိုမီတာအောက်သို့ ရောက်ရှိနိုင်သည်။ ဤအလွန်နုပ်သော အဆုံးသတ်ခြင်းအလုပ်စဉ်များသည် စက်မှုလုပ်ငန်းအခြေအနေများ အလွန်တည်ငြိမ်မှုရှိရန်၊ အလွန်သန့်စင်သော ဒိုင်အီလက်ထရစ်အရည်များ ရှိရန်နှင့် အလွန်တိကျစွာ ပြင်ဆင်ထားသော အီလက်ထရုဒ်များ ရှိရန် လိုအပ်ပါသည်။ ထိုသို့ဖြင့် စက်ဖွဲ့စည်းမှုလုပ်ထားသော မျက်နှာပုံတစ်ခုလုံးတွင် ရှိသော ရလဒ်များကို တစ်သေးတစ်ဖောက် ရရှိနိုင်မည်ဖြစ်သည်။

အိုဗီတယ်နှင့် လှည့်ပတ်မှု စက်မှုလုပ်ငန်း လှုပ်ရှားမှု ထိန်းချုပ်မှု

စင်ကာ EDM အဆင့်မှုန်းသည့် လုပ်ဆောင်မှုများအတွင်း အိုးဘစ်တယ် (orbital) သို့မဟုတ် လှည့်ပတ်သည့် (rotational) အီလက်ထရုံးဒ် လှုပ်ရှားမှုကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့် မျက်နှာပုံအရည်အသွေးနှင့် တည်ငြိမ်မှုကို သိသိသာသာ မြင့်တင်ပေးနိုင်ပါသည်။ အိုးဘစ်တယ် လှုပ်ရှားမှုသည် အီလက်ထရုံးဒ်သည် စက်မှုပုံစံကို ထိန်းသိမ်းရင်း သေးငယ်သော ဝိုင်းပုံ သို့မဟုတ် ပိုမိုရှည်လျားသော ဝိုင်းပုံ (elliptical) လမ်းကြောင်းကို လိုက်နာခြင်းဖြစ်ပြီး အီလက်ထရုံးဒ်၏ မျက်နှာပုံပေါ်တွင် ပေါက်ကွဲမှုနေရာများကို ပိုမိုညီညာစွာ ဖြန့်ဖြူးပေးနိုင်ပါသည်။ ထိုသို့သော လှုပ်ရှားမှုသည် မျက်နှာပုံပေါ်တွင် အမျှတ်အသားများ ဖြစ်ပေါ်စေနိုင်သည့် နေရာအလိုက် ပုံပေါ်လာသော အစွန်းဖြစ်မှုများကို ကာကွယ်ပေးနိုင်ပါသည်။ ထိုလှုပ်ရှားမှုနည်းလမ်းသည် အကွာအဝေးအတွင်း ဒိုင်အီလက်ထရစ် (dielectric) စီးဆေးမှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေပြီး အထူးသဖြင့် နက်ရှိုင်းသော အိုင်းမ် (cavities) သို့မဟုတ် ကန့်သတ်ထားသော ပုံစံများတွင် အမှုန်များကို ပိုမိုထိရောက်စွာ ဖယ်ရှားပေးနိုင်ပါသည်။ ထိုသို့သော နေရာများတွင် စီးဆေးမှုကို စက်သေးငယ်စွာ လုပ်ဆောင်ခြင်းသည် ထိရောက်မှုနည်းပါသည်။

လျှပ်ကူးသားအရွယ်အစား၊ အခန်း၏ပုံစံနှင့် လိုအပ်သောမျက်နှာပြင်အရည်အသွေးတို့အပေါ် မှီတည်၍ လှည့်ပတ်မှုအကွင်း၏ အနံနှင့် ကြိမ်နှန်းကို သေချာစွာရွေးချယ်ရပါမည်။ အဆုံးသတ်လုပ်ငန်းများအတွက် အသုံးများသော လှည့်ပတ်မှုများတွင် အနံသည် မိုက်ခရိုမီတာ ၁၀ မှ ၁၀၀ အထိဖြစ်ပြီး လှည့်ပတ်မှုကို ချောမွေ့စွာလုပ်ဆောင်နိုင်ရန်နှင့် ကြိမ်နှန်းကို ဗိုင်ဘရေးရှင်း (အုန်းချောက်) သို့မဟုတ် ဒိုင်နမစ် နေရာချထားမှုအမှားများ မဖြစ်ပေါ်စေရန်အတွက် ကြိမ်နှန်းကို ညှိပေးရပါမည်။ စက်ဝိုင်းပုံသို့မဟုတ် လှည့်ပတ်မှုအရ စိတ်ကူးယဉ်ပုံစံရှိသော အစိတ်အပိုင်းများအတွက် အဆုံးသတ်လုပ်ငန်းအတွင်း လျှပ်ကူးသားကို အဆက်မပြတ်လှည့်ပတ်ပေးခြင်းဖြင့် အလွန်တူညီသော ပတ်လုံးဝန်းကုန်းမျက်နှာပြင်အရည်အသွေးများကို ထုတ်လုပ်နိုင်ပါသည်။ ထိုသို့သော လှည့်ပတ်မှုထိန်းချုပ်မှုနည်းလမ်းများသည် အတွင်းပိုင်းအတိမ်အနက်များသော အများအကျော်အများအတွက် အသုံးပြုသော EDM စက်များနှင့် ရှုပ်ထွေးသော လှည့်ပတ်မှုပုံစံများကို လျှပ်စစ်ပါရာမီတာများနှင့် ပေါင်းစပ်၍ ညှိနောင်းပေးနိုင်သော အဆင့်မြင့် ထိန်းချုပ်စနစ်များကို လိုအပ်ပါသည်။

ပတ်ဝန်းကျင်ထိန်းချုပ်မှုနှင့် စက်သုံးမှုတည်ငြိမ်မှု

အောက်ချို့မှု အီလက်ထရွန်နစ် ပုံသေးစိတ်ဖွဲ့စည်းမှု (sinker EDM) ဖြင့် ရရှိနိုင်သည့် မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးပေါ်တွင် ပတ်ဝန်းကျင်အခြေအနေများနှင့် စက်ပစ္စည်း၏ တည်ငြိမ်မှုအခြေအနေများသည် အထူးသဖြင့် အလွန်အများကြီးသေးငယ်သည့် ပုံသေးစိတ်ဖွဲ့စည်းမှုလုပ်ဆောင်မှုများတွင် အလွန်အများကြီးသေးငယ်သည့် စက်ပစ္စည်းလုပ်ဆောင်မှုအခြေအနေများ၏ အနုစိတ်ပြောင်းလဲမှုများသည် အရေးပါလာသည့်အတွက် အရေးပါသည့် သက်ရောက်မှုကို ဖော်ပြပါသည်။ စက်ပစ္စည်း၏ အလုပ်လုပ်သည့်နေရာတွင် အပူချိန်တည်ငြိမ်မှုသည် အရွယ်အစားတိကျမှု၊ ဒိုင်အီလက်ထရစ်ဂုဏ်သတ္တိများနှင့် အီလက်ထရွန်ဒို (electrode) နှင့် အလုပ်လုပ်သည့်အရာ (workpiece) နှစ်ခုလုံး၏ အပူဖောင်းကွဲမှုကို သက်ရောက်မှုရှိပါသည်။ ထို့ကြောင့် အရေးကြီးသည့် မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးအတွက် အပူချိန်ထိန်းသိမ်းထားသည့် စက်ပစ္စည်းလုပ်ဆောင်မှုပတ်ဝန်းကျင်များကို အသုံးပြုခြင်းသည် အကျေးဇူးပုဒ်ဖော်ပေးပါသည်။ အလုပ်လုပ်သည့်နေရာတွင် အပူချိန်ကို စင်တီဂရိတ်အပူချိန် ၁ ဒီဂရီ အထက် သို့မဟုတ် အောက်ချိန်တွင် ထိန်းသိမ်းထားခြင်းဖြင့် အပူဖောင်းကွဲမှုကို အနည်းဆုံးဖြစ်အောင် လုပ်ဆောင်နိုင်ပြီး ရှည်လျားသည့် ပုံသေးစိတ်ဖွဲ့စည်းမှု စက်ကြောင်းများတွင် အကွာအဝေးအခြေအနေများကို တည်ငြိမ်စေရန် အထောက်အကူပေးပါသည်။

အဆုံးသတ်လုပ်ငန်းများအတွင်း စွမ်းအင်ထုတ်လုပ်မှုများ လျော့နည်းလာသည်နှင့်အမျှ ကြိတ်ခွဲမှုအတွက် ချိန်ညှိမှုများ ပိုမိုအရေးကြီးလာပါသည်။ အကြောင်းမှာ အပြင်ပန်းမှ လာသော ကြိတ်ခွဲမှုများသည် တိကျစွာထိန်းချုပ်ထားသော စပာ့က်အကွာအဝေးကို အနှောင့်အယှက်ဖြစ်စေပြီး မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို ပိုမိုမှုန်ဝါစေသော စပာ့က်ဖြစ်ပေါ်မှုနေရာများကို ပြောင်းလဲစေနိုင်သောကြောင့်ဖြစ်သည်။ အရည်အသွေးမြင့် EDM စက်များတွင် ကြိတ်ခွဲမှုကို လျော့နည်းစေသော အခြေခံအိမ်များ၊ ခွဲထားသော အခြေခံများ သို့မဟုတ် အသုံးပြုသော ကြိတ်ခွဲမှု ပိုမိုတိကျစေရန် စနစ်များကို ထည့်သွင်းထားပါသည်။ ထို့အပြင် နီးစပ်ရှိသော စက်များမှ လာသော လျှပ်မှုသံချိန် အနှောင့်အယှက်များသည် စပာ့က်ဖြစ်ပေါ်မှု တည်ငြိမ်မှုနှင့် ထိန်းချုပ်မှုစနစ်၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထိခိုက်စေနိုင်ပါသည်။ ထို့ကြောင့် စက်များအများအပြား သို့မဟုတ် ပါဝါစက်များကို နီးစပ်ရှိသောနေရာတွင် တပ်ဆင်သည့်အခါ လျှပ်စစ်အခြေခံများ နှင့် ကာကွယ်မှုစနစ်များကို သင့်လျော်စွာ တပ်ဆင်ရန် အရေးကြီးပါသည်။ ဤသို့သော ပတ်ဝန်းကျင်ဆိုင်ရာ အချက်များကို လျှပ်ထိပ်၊ စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် ဒိုင်အီလက်ထရစ် အများဆုံးအောင်မှုန်ဝါမှုများနှင့် တွဲဖက်၍ ဖြေရှင်းခြင်းဖြင့် ထုတ်လုပ်သူများသည် အရည်အသွေးအများဆုံး လိုအပ်ချက်များကို ဖော်ပြနိုင်သည့် အများဆုံး တိကျမှုနှင့် ထပ်ခါထပ်ခါ အတိအကျ အလုပ်လုပ်နိုင်သော မျက်နှာပုံအရည်အသွေးများကို ရရှိနိုင်ပါသည်။

မေးလေ့ရှိသောမေးခွန်းများ

Sink EDM ဖြင့် အမှန်တကယ်ရရှိနိုင်သည့် မျက်နှာပြင်အဆုံးသတ်အဆင့်များသည် အဘယ်သို့နည်း။

Sink EDM ဖြင့် အစပိုင်းအလုပ်လုပ်ခြင်းအတွက် Ra ၁၂ မိုက်ခရိုမီတာများမှ အထူးသဖြင့် မှန်ပုံစံအဆုံးသတ်အလုပ်လုပ်ခြင်းအတွက် Ra ၀.၁ မိုက်ခရိုမီတာ (သို့) ထိုထက်ပိုမော်က်သည့် မျက်နှာပြင်အဆုံးသတ်များအထိ ရရှိနိုင်ပါသည်။ အများစုသော ထုတ်လုပ်မှုအဆုံးသတ်အလုပ်များတွင် Ra ၀.၄ မှ ၁.၅ မိုက်ခရိုမီတာအထိ အဆုံးသတ်များကို ပန်းပုပုံစဥ်များ၊ တိကျသည့် ကိရိယာများနှင့် လုပ်ဆောင်နေသည့် အစိတ်အပိုင်းများအတွက် အကောင်းများသည့် မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးကို ပေးစွမ်းနိုင်ပါသည်။ ထိုသို့သော အဆုံးသတ်များကို ရရှိရန်အတွက် စက်ပစ္စည်းအချိန်ကုန်ကုန်သည့် အချိန်များကို ထိန်းသိမ်းရန် လုံလောက်သည့် အချိန်ကုန်ကုန်များကို ထိန်းသိမ်းရန် လုံလောက်သည့် အချိန်ကုန်ကုန်များကို ထိန်းသိမ်းရန် လုံလောက်သည့် အချိန်ကုန်ကုန်များကို ထိန်းသိမ်းရန် လုံလောက်သည့် အချိန်ကုန်ကုန်များကို ထိန်းသိမ်းရန် လုံလောက်သည့် အချိန်ကုန်ကုန်များကို ထိန်းသိမ်းရန် လုံလောက်သည့် အချိန်ကုန်ကုန်များကို ထိန်းသိမ်းရန် လုံလောက်သည့် အချိန်ကုန်ကုန်များကို ထိန်းသိမ်...... Ra ၀.၃ မိုက်ခရိုမီတာအောက်သို့ ရရှိနိုင်ရန်အတွက် အထူးပြုထားသည့် အဆုံးသတ်လျှပ်မှုစုံသော လျှပ်မှုစုံများ၊ စွမ်းအင်နည်းသည့် လျှပ်စစ်ပါရာမီတာများကို အကောင်းများသည့် အချိန်များတွင် အသုံးပြုခြင်း၊ အကောင်းများသည့် ဒိုင်အီလက်ထရစ်အခြေအနေများနှင့် အချိန်ပိုများသည့် စက်လုပ်ငန်းအချိန်များကို လိုအပ်ပါသည်။ ထိုသို့သော အလွန်နုပ်သည့် အဆုံးသတ်များကို မျက်နှာပြင်များကို မြင်နိုင်သည့် နေရာများ၊ အလင်းရေးဆိုင်ရာ အသုံးပြုမှုများ (သို့) မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးသည် ထုတ်ကုန်၏ လုပ်ဆောင်နေမှုကို တိုက်ရိုက်သက်ရောက်မှုရှိသည့် အထူးလုပ်ဆောင်မှုများအတွက်သာ အသုံးပြုရန် သင့်တော်ပါသည်။

လျှပ်မှုစုံပစ္စည်းရွေးချယ်မှုသည် နောက်ဆုံးမျက်နှာပြင်အဆုံးသတ်အရည်အသွေးကို မည်သို့သိမ်းဆောင်ပါသနည်း။

အီလက်ထရုံးပစ္စည်းသည် ရရှိနိုင်သော မျက်နှာပြင်အမျှတ်ကို အရေးကြီးစွာ သက်ရောက်မှုရှိပါသည်။ ကြေးနီအီလက်ထရုံးများသည် သူတို့၏ အထက်မြောက်သော အပူလွှဲပေးနိုင်မှုနှင့် အဆုံးသတ်အချိန်တွင် ပုံမှန်အားဖြင့် ပိုမိုနောက်ကျသော ပုံပေါ်မှုနှုန်းများကြောင့် အမျှတ်အကောင်းဆုံးမျက်နှာပြင်များကို ထုတ်လုပ်ပေးနိုင်ပါသည်။ ထို့ကြောင့် Ra 0.3 မိုက်ခရိုမီတာအောက်ရှိသော အမျှတ်များကို ရရှိနိုင်ပါသည်။ ဂရပ်ဖိုက်အီလက်ထရုံးများသည် အမျှတ်အနည်းငယ် ပိုမျှတ်မှုနောက်ကျသော မျက်နှာပြင်များကို ဖန်တီးပေးပါသည်။ အထူးသဖြင့် အမျှတ်အကောင်းဆုံးဖန်တီးရေးလုပ်ငန်းများတွင် Ra 0.4 မှ 0.8 မိုက်ခရိုမီတာအထိ အမျှတ်များကို ဖန်တီးပေးပါသည်။ သို့သော် အရည်အသွေးမြင့်မားသော အမျှတ်အကောင်းဆုံး ဂရပ်ဖိုက်အမျိုးအစားများကို သင်္ကြန်မှန်ကန်စွာ ချိန်ညှိပေးပါက ကြေးနီအီလက်ထရုံးများ၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို နီးပါးရရှိနိုင်ပါသည်။ အီလက်ထရုံးပစ္စည်းသည် ပေါက်ကွဲမှုတည်ငြိမ်မှုကိုလည်း သက်ရောက်မှုရှိပါသည်။ ကြေးနီသည် ပုံမှန်အားဖြင့် ပေါက်ကွဲမှုအမျှတ်များကို ပိုမိုတည်ငြိမ်စွာ ထောက်ပံ့ပေးပါသည်။ ထို့ကြောင့် မျက်နှာပြင်အမျှတ်များကို ပုံမှန်အားဖြင့် ဖန်တီးပေးနိုင်ပါသည်။ ဂရပ်ဖိုက်သည် အလေးချိန်နည်းခြင်းနှင့် စုံစမ်းစရိတ်နည်းခြင်းတို့ကြောင့် အရီးအသေးများအတွက် သို့မဟုတ် မျက်နှာပြင်အမျှတ်အနည်းငယ် လျော့နည်းသော အခြေအနေများတွင် လက်တွေ့ကျသော စုံစမ်းစရိတ်များကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေရန်အတွက် အသုံးပြုရှိပါသည်။

မျက်နှာပြင်အမျှတ်သည် တူညီသော အလုပ်အကိုင်အစိတ်အပိုင်း၏ နေရာများစွာတွင် အကောင်းဆုံးအမျှတ်များ ကွဲပြားမှုရှိသည် အဘယ့်ကြောင့်နည်း။

တစ်ခုတည်းသော sinker EDM အလုပ်အမှုဆောင်မှုပုံစဥ်တွင် မျက်နှာပြင်အရည်အသွေး ကွဲလေးမှုများသည် အများအားဖြင့် ဒိုင်အီလက်ထရစ် အရည်ဖောက်ထုတ်မှုမ sufficiently ဖြစ်ခြင်း၊ အီလက်ထရုံး၏ အမျှမျှတတ မဖြစ်ခြင်း သို့မဟုတ် လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှုဖြန့်ဖြူးမှုကို အနေအထားအရ သက်ရောက်မှုရှိသော အချက်များကြောင့် ဖြစ်ပေါ်လေ့ရှိပါသည်။ အထူးသဖြင့် နက်ရှိုင်းသော အိုင်းအိုင်းများ၊ ထက်မှုန်သော ထောင်ထောင်ထောင်များ သို့မဟုတ် ကျဉ်းမျောင်းသော အရိုးများကဲ့သို့သော ဒိုင်အီလက်ထရစ် အရည်ဖောက်ထုတ်မှု ဝင်ရောက်ရန် အခက်အခဲရှိသော နေရာများတွင် အမှုန်အမှုန်များ စုပုံလေ့ရှိပြီး ဒိုင်အီလက်ထရစ် အရည်၏ စီးဆင်းမှု အားနည်းခြင်းကြောင့် လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှုများ မတည်မြဲခြင်းနှင့် အမျှမျှတတ မဖြစ်ခြင်းများ ဖြစ်ပေါ်လေ့ရှိပါသည်။ ထိုသို့သော နေရာများသည် ဖောက်ထုတ်မှုကောင်းမောင်းသော နေရာများနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက မျက်နှာပြင်အရည်အသွေး ပိုမိုမျက်နှာပြင်ချောမှုနည်းပါသည်။ အီလက်ထရုံး၏ ပုံပေါက်ခြင်းပုံစဥ်များသည် အမျှမျှတတ မဖြစ်ခြင်းများကို ဖော်ပေါ်စေပြီး ဒိုင်အီလက်ထရစ် အကွာအဝေးနှင့် လျှပ်စစ်ပေါက်ကွဲမှု စွမ်းအားများကို ပြောင်းလဲစေနိုင်ပါသည်။ ထိုသို့သော ပုံပေါက်ခြင်းများသည် အထူးသဖြင့် အမျှမျှတတ ဖောက်ထုတ်မှုနှင့် အမျှမျှတတ မျက်နှာပြင်ဖောက်ထုတ်မှုအတွက် အသုံးပြုသည့် အီလက်ထရုံးများကို တစ်ခုတည်းသော အီလက်ထရုံးဖြင့် အသုံးပြုခြင်း (အစိတ်အပိုင်းအလုပ်မှုအတွက် သီးသန့်အီလက်ထရုံးများ မသုံးခြင်း) တွင် ပိုမိုထင်ရှားပါသည်။ ထို့အပ besides အလုပ်အမှုဆောင်မှုပုံစဥ်တွင် အလုပ်အမှုဆောင်မှုပုံစဥ်တွင် အလုပ်အမှုဆောင်မှုပုံစဥ်တွင် အလုပ်အမှုဆောင်မှုပုံစဥ်တွင် အလုပ်အမှုဆောင်မှုပုံစဥ်တွင် အလုပ်အမှုဆောင်မှုပုံစဥ်တွင် အလုပ်အမှုဆောင်မှုပုံစဥ်တွင် အလုပ်အမှုဆောင်မှုပုံစဥ်တွင် အလုပ်အမှုဆောင်မှုပုံစဥ်တွင် အလုပ်အမှုဆောင်မှုပုံစဥ်တွင် အလုပ်အမှုဆောင်မှုပုံစဥ်တွင် အလုပ်အမှုဆောင်မှုပုံစဥ်တွင် အလုပ်အမှ......

လိုအပ်ပါက မျက်နှာပုံအရည်အသွေးကို ထပ်မော်ပြီး မြှင့်တင်ရန် EDM ပြီးနောက် ကုသမှုများ မည်သည့်အရာများ ရှိပါသနည်း။

စင်ကာ EDM တစ်ခုတည်းဖြင့် လိုအပ်သော မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးအတိုင်းအတာများကို မရရှိနိုင်ပါက မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးကို ထပ်မံမြှင့်တင်ရန် နောက်ဆုံးပေါ်စက်မှုကုန်ကုန်ပစ္စည်းများကို အသုံးပြုနိုင်ပါသည်။ ဤနည်းများတွင် အဆင့်ဆင့်ပိုမိုကြီးမှုနည်းသော အိုင်စ်အိုလေးရှင်းများဖြင့် လက်ဖြင့် မှုန်မှုန်ကုန်ကုန်ပစ္စည်းများဖြင့် မှုန်မှုန်ကုန်ကုန်ပစ္စည်းများဖြင့် အလိုအလျောက် မှုန်မှုန်ကုန်ကုန်ပစ္စည်းများ၊ ပုံသောင်းမှုန်မှုန်ကုန်ကုန်ပစ္စည်းများ (electrochemical polishing) ဖြင့် ပုံသောင်းမှုန်မှုန်ကုန်ကုန်ပစ္စည်းများကို ရွေးချယ်ပြီး မှုန်မှုန်ကုန်ကုန်ပစ္စည်းများကို ဖယ်ရှားခြင်းနှင့် မျက်နှာပြင်အမိုးများကို ညီညာစေခြင်း၊ အိုင်စ်အိုလေးရှင်းမှုန်မှုန်ကုန်ကုန်ပစ္စည်းများ (abrasive flow machining) ဖြင့် အိုင်စ်အိုလေးရှင်းမှုန်မှုန်ကုန်ကုန်ပစ္စည်းများကို အမိုးများအတွင်းသို့ ဖိသွင်းခြင်းဖြင့် ညီညာသော အဆုံးသတ်မှုန်မှုန်ကုန်ကုန်ပစ္စည်းများကို ရရှိခြင်းတို့ ပါဝင်ပါသည်။ အချို့သော အသုံးပြုမှုများတွင် အိုင်စ်အိုလေးရှင်းမှုန်မှုန်ကုန်ကုန်ပစ္စည်းများကို နှုန်းနှုန်းညှင်းညှင်းဖြင့် မှုန်မှုန်ကုန်ကုန်ပစ္စည်းများဖြင့် ဖယ်ရှားခြင်း သို့မဟုတ် အထူးသော ဓာတုဖြစ်စေသော အက်စစ်ဖြင့် ဖယ်ရှားခြင်းတို့ဖြင့် မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးနှင့် ပိုမိုကောင်းမွန်သော ပိုမိုကောင်းမွန်သော အိုင်စ်အိုလေးရှင်းမှုန်မှုန်ကုန်ကုန်ပစ္စည်းများကို ရရှိနိုင်ပါသည်။ ထိုသို့သော အမိုးများကို ဖယ်ရှားခြင်းဖြင့် မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးနှင့် ပိုမိုကောင်းမွန်သော ပိုမိုကောင်းမွန်သော အိုင်စ်အိုလေးရှင်းမှုန်မှုန်ကုန်ကုန်ပစ္စည်းများကို ရရှိနိုင်ပါသည်။ အကောင်းဆုံးနည်းလမ်းများသည် အသုံးပြုမှုအများအပြားပေါ်တွင် မှီခိုပါသည်။ ဥပမါ- အသုံးပြုမှုအများအပြားပေါ်တွင် မှီခိုပါသည်။ ဥပမါ- အသုံးပြုမှုအများအပြားပေါ်တွင် မှီခိုပါသည်။ ဥပမါ- အသုံးပြုမှုအများအပြားပေါ်တွင် မှီခိုပါသည်။ ဥပမါ- အသုံးပြုမှုအများအပြားပေါ်တွင် မှီခိုပါသည်။ ဥပမါ- အသုံးပြုမှုအများအပြားပေါ်တွင် မှီခိုပါသည်။ ဥပမါ- အသုံးပြုမှုအများအပြားပေါ်တွင် မှီခိုပါသည်။ ဥပမါ- အသုံးပြုမှုအ......